A tunable injection seeded very narrow band F.sub.2 lithography laser. The laser combines modular design features of prior art long life reliable lithography lasers with special techniques to produce a seed beam operated in a first gain medium which beam is used to stimulate narrow band lasing in a second gain medium to produce a very narrow band laser beam useful for integrated circuit lithography. In a preferred embodiment, two tunable etalon output couplers are used to narrow band an F.sub.2 laser and the output of the seed laser is amplified in an F.sub.2 amplifier.

Een melodieuze injectie zaaide de zeer smalle laser van de bandf.sub.2 lithografie. De laser combineert modulaire ontwerpeigenschappen van betrouwbare de lithografielasers van het vroegere kunst lange leven met speciale technieken om een zaadstraal te produceren die in een eerste aanwinstenmiddel in werking wordt gesteld dat de straal wordt gebruikt om het smalle band lasing in een tweede aanwinstenmiddel te bevorderen om een zeer smalle bandlaserstraal te produceren nuttig voor de lithografie van geïntegreerde schakelingen. In een aangewezen belichaming, worden twee melodieuze koppelingen van de etalonoutput gebruikt aan smalle band een laser F.sub.2 en de output van de zaadlaser wordt vergroot in een versterker F.sub.2.