A method and software program for determining printability of a defect on a reticle or photomask onto a substrate during processing. That is performed by creating a pixel grid image having a plurality of individual pixel images showing the defect. A gray scale value is assigned to each pixel image of the pixel grid image and a probable center pixel of the defect is selected. Then the polarity of the defect is determined, with a coarse center pixel of the defect optionally selected using the probable center defect and polarity of the defect. If a coarse center pixel is selected, then a fine center of the defect can optionally be selected from the coarse center pixel and polarity of the defect. From the center pixel the physical extent of the defect can be determined followed by the determination the transmissivity energy level of the physical extent of the defect. Optionally, the proximity of the defect to a pattern edge on the reticle or photomask can be determined using the physical extent and polarity of the defect. Then the printability of the defect can be determined from the transmissivity energy level of the defect and characteristics of the wafer fabrication process being used to produce the substrate from the reticle or photomask.

Un programme de méthode et de logiciel pour déterminer l'imprimabilité d'un défaut sur un réticule ou un photomask sur un substrat pendant le traitement. Cela est exécuté en créant une image de grille de Pixel ayant une pluralité de différentes images de Pixel montrant le défaut. Une valeur de échelle grise est assignée à chaque image de Pixel de l'image de grille de Pixel et un Pixel central probable du défaut est choisi. Alors la polarité du défaut est déterminée, avec un Pixel central brut du défaut sur option choisi en utilisant le défaut et la polarité centraux probables du défaut. Si un Pixel central brut est choisi, alors un centre fin du défaut peut sur option être choisi parmi le Pixel et la polarité centraux bruts du défaut. Du Pixel central que l'ampleur physique du défaut peut être déterminée a suivi de la détermination la force de transmissivité spécifique de l'ampleur physique du défaut. Sur option, la proximité du défaut à un bord de modèle sur le réticule ou le photomask peut être déterminée en utilisant l'ampleur et la polarité physiques du défaut. Alors l'imprimabilité du défaut peut être déterminée à partir de la force de transmissivité spécifique du défaut et les caractéristiques de la fabrication de gaufrette traitent en utilisant pour produire le substrat à partir du réticule ou du photomask.