An etching method and a device therefor are provided to detect the etching end point with high accuracy and reproducibility. In an etching method and device, in dry etching, a variation of a self-bias voltage as a time elapses is measured, and a time where a differentiation value becomes 0 when the variation of the self-bias voltage is differentiated is regarded as an end point.

Une méthode gravure à l'eau-forte et un dispositif pour cette fin sont fournis pour détecter le point final gravure à l'eau-forte avec l'exactitude et la reproductibilité élevées. Dans une méthode et un dispositif gravure à l'eau-forte, en gravure à l'eau-forte sèche, une variation d'une tension de art de l'auto-portrait-bias comme moment s'écoule est mesurée, et un moment où une valeur de différentiation devient 0 quand la variation de la tension de art de l'auto-portrait-bias est différenciée est considéré comme un point final.