A multi-aperture irradiation profile shaping system is presented that uses at least one arrangement of at least three apertures associated with a plurality of optical elements, wherein at least one optical element has positive optical power and another one element has negative optical power. The system may be implemented with the apertures in one, two, or three dimensions. The system yields a predetermined arbitrary irradiation profile on a target. The shape of the apertures may be any one of square, rectangular, and hexagonal. The shape of the apertures may also be asymmetric so that a rotation of the aperture shape by 180 degrees around an axis perpendicular to the surface of the aperture yields an inverted aperture shape. The system may be implemented with apertures having symmetric and asymmetric shapes that allow nearly 100% fill factor.

Ένα σχεδιάγραμμα ακτινοβολίας πολυ-ανοιγμάτων που διαμορφώνει το σύστημα παρουσιάζεται του οποίου οι χρήσεις σε λιγότερη μια ρύθμιση σε λιγότερα τρία ανοίγματα σύνδεσαν με μια πολλαπλότητα των οπτικών στοιχείων, όπου σε λιγότερο ένα οπτικό στοιχείο έχει θετικό η οπτική δύναμη και άλλο ένα στοιχείο έχουν την αρνητική οπτική δύναμη. Το σύστημα μπορεί να εφαρμοστεί με τα ανοίγματα σε μια, δύο, ή τρεις διαστάσεις. Το σύστημα παράγει ένα προκαθορισμένο αυθαίρετο σχεδιάγραμμα ακτινοβολίας σε έναν στόχο. Η μορφή των ανοιγμάτων μπορεί να είναι οποιοσδήποτε από τετραγωνικός, ορθογώνιος, και εξαγωνικός. Η μορφή των ανοιγμάτων μπορεί επίσης να είναι ασυμμετρική έτσι ώστε μια περιστροφή της μορφής ανοιγμάτων από 180 βαθμούς γύρω από μια κάθετο άξονα στην επιφάνεια του ανοίγματος παράγει μια μορφή ανοιγμάτων. Το σύστημα μπορεί να εφαρμοστεί με τα ανοίγματα που έχουν τις συμμετρικές και ασυμμετρικές μορφές που επιτρέπουν ότι σχεδόν 100% γεμίζουν τον παράγοντα.