A reactor for use in electrochemical processing of a microelectronic workpiece is set forth and described herein. The apparatus comprises one or more walls defining a processing space therebetween for containing a processing fluid. The processing space includes at least a first fluid flow region and a second fluid flow region. A first electrode is disposed in the processing fluid of the first fluid flow region while a second electrode, comprising at least a portion of the microelectronic workpiece, is disposed in the processing fluid of the second fluid flow region. Fluid flow within the first fluid flow region is generally directed toward the first electrode and away from the second electrode while fluid flow within the second fluid flow region is generally directed toward the second electrode and away from the first electrode. Depending on the particular electrochemical process that is to be executed, the first electrode may constitute either an anode or a cathode in the electrochemical processing of the microelectronic workpiece.

Um reator para o uso em processar eletroquímico de um workpiece microelectronic é determinado e descrito nisto. O instrumento compreende um ou mais parede que define um espaço processando therebetween contendo um líquido processando. O espaço processando inclui ao menos uma primeira região fluida do fluxo e uma segunda região fluida do fluxo. Um primeiro elétrodo está disposto no líquido processando da primeira região fluida do fluxo quando um segundo elétrodo, compreendendo ao menos uma parcela do workpiece microelectronic, for disposto no líquido processando da segunda região fluida do fluxo. O fluxo fluido dentro da primeira região fluida do fluxo está dirigido geralmente para o primeiro elétrodo e afastado do segundo elétrodo quando o fluxo fluido dentro da segunda região fluida do fluxo for dirigido geralmente para o segundo elétrodo e afastado do primeiro elétrodo. Dependendo do processo eletroquímico particular que deve ser executado, o primeiro elétrodo pode constituir um ânodo ou um cátodo em processar eletroquímico do workpiece microelectronic.

 
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< Metallization structures for microelectronic applications and process for forming the structures

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