In a charged particle beam apparatus comprising an ion optical system 3 for focusing ions, a secondary charged particle detector 7 for detecting secondary charged particles produced by beam irradiation of scanning a focused ion beam 2 focused by the ion optical system 3 to a predetermined region of a sample 5, a display unit 9 for displaying an image of the sample surface 5 based on a signal of the secondary charged particle detector, and a gas injector 4 for blowing a gas to the sample surface 5, a focused ion beam processing apparatus is characterized by conducting processing by cooling a gas trap provided between a reservoir 13 or cylinder 18 and a valve 12 to control an assist gas having a high vapor pressure and blowing it through the gas injector 4 simultaneously with irradiating a focused ion beam.

В порученном приборе луча частицы состоя из системы 3 иона оптически для фокусируя ионов, вторичный порученный детектор 7 частицы для обнаруживать вторичные порученные частицы произвел облучением луча просматривать сфокусированный луч иона 2 сфокусированный системой 3 иона оптически к предопределенной зоне образца 5, блок индикации 9 для показа изображения определенной поверхности 5 основанной на сигнале вторичного порученного детектора частицы, и инжектор 4 газа для дуть газ к определенной поверхности 5, сфокусированный луч иона обрабатывая прибор охарактеризован путем дирижировать обрабатывать путем охлаждать ловушку газа обеспеченную между резервуаром 13 или цилиндром 18 и клапаном 12 для того чтобы контролировать газ assist имея высокое давление пара и дуя оно до инжектор 4 газа одновременно с облучать сфокусированный луч иона.