Anti-reflective coating materials for deep ultraviolet photolithography include one or more organic dyes incorporated into spin-on-glass materials. Suitable dyes are strongly absorbing over wavelength ranges around wavelengths such as 248 nm and 193 nm that may be used in photolithography. A method of making dyed spin-on-glass materials includes combining one or more organic dyes with alkoxysilane reactants during synthesis of the spin-on-glass materials.

os materiais revestindo Anti-reflexivos para o photolithography ultravioleta profundo incluem um ou mais tintura orgânica incorporada em materiais do gir-em-vidro. As tinturas apropriadas estão absorvendo fortemente escalas de wavelength excedentes em torno dos wavelengths tais como 248 nm e 193 nm que podem ser usados no photolithography. Um método de fazer materiais tingidos do gir-em-vidro inclui combinar um ou mais tintura orgânica com os reactants do alkoxysilane durante a síntese dos materiais do gir-em-vidro.