A rapid prototyping and manufacturing (e.g. stereolithography) apparatus includes a secondary frame located within a primary frame of the system. The secondary frame defines an enclosure for housing a number of peripheral heat-producing components and peripheral vibration-producing components. The heat generated by these peripheral heat-producing components is substantially isolated in the enclosure and is removed from the primary frame so as not to cause an undesired impact on other components within the main frame. The secondary frame preferably sits directly on the floor or other surface without touching the primary frame, thus substantially avoiding transmittance of vibration from components in the enclosure to the primary frame of the system.

Быстро prototyping и изготовляя (прибор например stereolithography) вклюает вторичную рамку расположенную внутри главным образом рамка системы. Вторичная рамка определяет приложение для расквартировывать несколько компоненты peripheral жар-proizvod4 и компоненты peripheral вибраци-proizvod4. Жара произведенная этими компонентами peripheral жар-proizvod4 существенн изолирована в приложении и извлекана от главным образом рамки для того НОП не причинить нежелательный удар на других компонентах внутри большая ЭВМ. Вторичная рамка предпочтительн сидит сразу на поле или другой поверхности без касатьться главным образом рамке, таким образом существенн избегающ пропускаемости вибрации от компонентов в приложении к главным образом рамке системы.