An effluent gas stream treatment system for treatment of gaseous effluents such as waste gases from semiconductor manufacturing operations. The effluent gas stream treatment system comprises an oxidation unit to which an oxygen-containing gas such as ozone may be added, with input of energy (e.g., thermal, radio frequency, electrical, microwave, etc.), to effect oxidation of oxidizable species in the effluent, such as halocompounds (e.g., chlorofluorocarbons, perfluorocarbons), CO, NF.sub.3, nitrogen oxides, and sulfur oxides). The effluent gas stream treatment system may include a wet scrubber associated with the oxygen-containing gas source, so that the gas stream is contacted with the oxygen-containing gas during the wet scrubbing operation, to enhance removal of oxidizable species in the gas stream during treatment.

Um sistema de tratamento do córrego do gás effluent para o tratamento de effluents gasosos tais como os gáses waste das operações de manufacturing do semicondutor. O sistema de tratamento do córrego do gás effluent compreende uma unidade da oxidação a que um gás oxigênio-contendo tal como o ozônio pode ser adicionado, com entrada da energia (por exemplo, thermal, freqüência, elétrico de rádio, microonda, etc.), para efetuar a oxidação da espécie oxidizable no effluent, tal como halocompounds (por exemplo, chlorofluorocarbons, perfluorocarbons), no CO, no NF.sub.3, nos óxidos do nitrogênio, e nos óxidos do enxôfre). O sistema de tratamento do córrego do gás effluent pode incluir um scrubber molhado associado com a fonte oxigênio-contendo do gás, de modo que o córrego do gás seja contatado com o gás oxigênio-contendo durante a operação esfregar molhado, para realçar a remoção da espécie oxidizable no córrego do gás durante o tratamento.