There is disclosed an electrostatic holding apparatus in which a voltage is applied to an conductive electrode covered with an insulating dielectric layer in order to cause the insulating dielectric layer to electrostatically attract an object. The main component of the insulating dielectric layer is ceramic containing 0.1-30 wt. % of an atomic metal, and the volume resistivity of the metal-containing ceramic at 20.degree. C. is 10.sup.8 -10.sup.13 .OMEGA..multidot.cm. The metallic element is Mo or W. In the electrostatic holding apparatus, since the volume resistivity of an insulating dielectric layer of an electrostatic attraction portion is decreased, a strong electrostatic force can be generated. Also, there can be maintained the capability of allowing removal of an object at the time of stopping application of voltage. Further, since neither fine cracks nor pores remain in the insulating dielectric layer after sintering, the withstand voltage is high.

É divulgado um instrumento prendendo eletrostático em que uma tensão é aplicada a um elétrodo condutor coberto com uma camada dieléctrica isolando a fim fazer com que a camada dieléctrica isolando atraia eletrostaticamente um objeto. O componente principal da camada dieléctrica isolando é cerâmico contendo 0.1-30 wt. % de um metal atômico, e o resistivity de volume de metal-conter cerâmico em 20.degree. O C. é OMEGA..multidot.cm De 10.sup.8 -10.sup.13. O elemento metálico é Mo ou W. No instrumento prendendo eletrostático, desde que o resistivity de volume de uma camada dieléctrica isolando de uma parcela eletrostática da atração é diminuído, uma força eletrostática forte pode ser gerada. Também, lá pode ser mantido a potencialidade de permitir a remoção de um objeto na altura de parar a aplicação da tensão. Mais mais, desde nem rachaduras finas nem pores remanesce na camada dieléctrica isolando após sintering, a tensão do withstand é elevada.