A photoreactive agent is provided for removing harmful materials which comprises a substrate and a layer containing a photoreactive semiconductor and organic fine particles coated with inorganic fine particles which is formed on at least one side of the substrate. A photoreactive agent is provided for removing harmful materials which comprises a substrate, a layer containing a photoreactive semiconductor and a layer containing organic fine particles coated with inorganic fine particles which layers are formed in that order on at least one side of the substrate. A photoreactive agent is provided for removing harmful materials which comprises a substrate, a layer containing a photoreactive semiconductor and a layer containing film-forming inorganic fine particles and a water repellent which layers are formed in that order on at least one side of the substrate. A photoreactive agent is provided for removing harmful materials which comprises a substrate, a layer containing a photoreactive semiconductor, a layer containing film-forming inorganic fine particles and a layer containing a water repellent which layers are formed in that order on at least one side of the substrate. The photoreactive agents for removing harmful materials are excellent in ability to remove harmful materials such as malodor, are water-resistant, are not changed in characteristics over a long period of time, and can easily be produced.

Un agent photoreactive est donné pour enlever les matériaux nocifs qui comporte un substrat et une couche contenant un semi-conducteur photoreactive et des particules fines organiques enduits des particules fines inorganiques qui est formé au moins d'un côté du substrat. Un agent photoreactive est donné pour enlever les matériaux nocifs qui comporte un substrat, une couche contenant un semi-conducteur photoreactive et une couche contenant les particules fines organiques enduites des particules fines inorganiques que des couches sont formé dans cet ordre au moins d'un côté du substrat. Un agent photoreactive est donné pour enlever les matériaux nocifs qui comporte un substrat, une couche contenant un semi-conducteur photoreactive et une couche contenant des particules fines inorganiques filmogènes et un révulsif de l'eau que des couches sont formé dans cet ordre au moins d'un côté du substrat. Un agent photoreactive est donné pour enlever les matériaux nocifs qui comporte un substrat, une couche contenant un semi-conducteur photoreactive, une couche contenant les particules fines inorganiques filmogènes et une couche contenant un révulsif de l'eau que des couches sont formé dans cet ordre au moins d'un côté du substrat. Les agents photoreactive pour enlever les matériaux nocifs sont excellents dans la capacité d'enlever les matériaux nocifs tels que le malodor, sont résistant à l'eau, ne sont pas changés dans les caractéristiques sur une longue période, et peuvent facilement être produits.

 
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> Composition for providing an abrasion resistant coating on a substrate

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