A packaging laminate (10) including a substrate film (15) coated with a carbon containing silicon oxide layer (16, 17) on both surfaces is disclosed herein. A method for producing the laminate (10), and blanks and packages fabricated from the laminate are also disclosed herein. The PECVD process of the present invention strains the substrate film (15) during deposition thereby creating a very thin oxide layer with superior durability, oxygen and aroma barrier properties. The carbon-containing silicon oxide coating (16, 17) has a stoichiometry of SiOxCy in which x is witin the range of 1.5-2.2 and y is within the range of 0.15-0.80. The substrate film (15) may include a core layer (12) of a material selected from the group consisting of paper, paperboard, a foamed core, polyethylene terephtalate, polyamide, polyethylene and polypropylene.

Ein verpackenlaminat (10) einschließlich einen Substratfilm (15) beschichtete mit einem Carbon, der Silikonoxidschicht (16, 17) enthält auf beiden Oberflächen wird freigegeben hierin. Eine Methode für das Produzieren des Laminats (10) und die freien Räume und Pakete, die aus dem Laminat fabriziert werden, werden auch hierin freigegeben. Der PECVD Prozeß der Geschenkerfindung belastet den Substratfilm (15) während der Absetzung, die dadurch eine sehr dünne Oxidschicht mit überlegenen Haltbarkeit, Sauerstoff- und Aromasperre Eigenschaften verursacht. Die Carbon-enthaltene Silikonoxidschicht (16, 17) hat eine Stöchiometrie von SiOxCy, in der x witin die Strecke 1.5-2.2 ist und von y ist innerhalb des Bereiches 0.15-0.80. Der Substratfilm (15) kann eine Kernschicht (12) eines Materials einschließen, das von der Gruppe vorgewählt wird, die aus Papier, Pappe, einem geschäumten Kern, Polyäthylen terephtalate, Polyamid, Polyäthylen und Polypropylen besteht.

 
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