A photosensitive resin composition and a method of forming a positive resist pattern by the use of the composition are disclosed. The photosensitive resin composition comprises (A) a resinous compound containing an acid-decomposing ester group, (B) a compound containing one ethylenically unsaturated bond in its molecule and possessing a group capable of forming a carboxylic acid via decomposition by the action of an acid, (C) a photo-acid generator, (D) a photo-radical polymerization initiator, and optionally (E) an epoxy resin. When this composition is applied to a substrate, exposed to an active energy ray of a wavelength enough to activate the photo-radical polymerization initiator (D) and not enough to activate the photo-acid generator (C) to radically polymerize the compound (B), selectively irradiated with an active energy ray of a wavelength enough to activate the photo-acid generator (C) and heated, the resinous compound (A) and the polymer of the compound (B) is thermally decomposed by the catalytic action of the acid generated by the photo-acid generator (C), with the result that the selectively irradiated part of the coating film will be rendered soluble in an aqueous alkaline solution. A positive resist pattern is formed by removing the selectively irradiated part by development. When the composition contains the epoxy resin (E), the coating film may be thermally cured.

Ein lichtempfindlicher Harzaufbau und eine Methode der Formung eines Positivs widerstehen Muster durch den Gebrauch von dem Aufbau werden freigegeben. Der lichtempfindliche Harzaufbau enthält (a) ein harzhaltiges Mittel, das eine Säure-zerlegende Estergruppe, (b) ein Mittel enthält, das eine äthylenisch ungesättigte Bindung in seinem Molekül enthält und eine Gruppe besitzt, die zur Formung einer karboxylhaltigen Säure über Aufspaltung durch die Tätigkeit einer Säure, (c) ein Foto-Säure Generator, (d) ein Foto-radikaler Polymerisierunginitiator und beliebig (e) ein Epoxidharz fähig ist. Wenn dieser Aufbau an einem Substrat aufgetragen wird, ausgesetzt einem aktiven Energiestrahl einer Wellenlänge genug, um den Foto-radikalen Polymerisierunginitiator (d) zu aktivieren und nicht genug, zum des Foto-Säure Generators (c) zu aktivieren, um das zusammengesetzte (b) radikal zu polymerisieren, selektiv bestrahlt mit einem aktiven Energiestrahl einer Wellenlänge genug, um den Foto-Säure Generator (c) zu aktivieren und geheizt, wird das harzhaltige Mittel (a) und das Polymer-Plastik des zusammengesetzten (b) thermisch durch die katalytische Tätigkeit der Säure zerlegt, die durch den Foto-Säure Generator (c), mit dem Resultat erzeugt wird, daß das selektiv bestrahlte Teil des beschichtenden Filmes löslich in einer wäßrigen alkalischen Lösung gemacht wird. Ein Positiv widerstehen Muster wird gebildet, indem es das selektiv bestrahlte Teil durch Entwicklung entfernt. Wenn der Aufbau das Epoxidharz (e) enthält, kann der beschichtende Film thermisch kuriert werden.