A fixed abrasive, chemical-mechanical polishing system which is particularly well suited for use in the manufacture of semiconductor devices, memory disks or the like.

Ein örtlich festgelegtes Poliermittel, Chemikalie-mechanisches Poliersystem, das besonders entsprochen für Gebrauch in der Herstellung der Halbleiterelemente, der Gedächtnisscheiben oder der dergleichen wohles ist.