There is provided a method of forming a thin functional film by vacuum vapor deposition in which a functional material is heated from the above thereof so that bumping or splashing of the functional material is not caused upon evaporation of the functional material. Specifically, the functional material is placed in a receiving vessel and the functional material is heated by a heater which is located above the functional material so that bumping or splashing is suppressed, whereby a uniform functional film is produced without a pinhole.

Er verstrekt een methode wordt om een dunne functionele film door vacuümdampdeposito te vormen waarin een functioneel materiaal van bovengenoemd daarvan wordt verwarmd zodat stotend of bespattend van het functionele materiaal niet op verdamping van het functionele materiaal wordt veroorzaakt. Specifiek, wordt het functionele materiaal geplaatst in een ontvangend schip en het functionele materiaal wordt verwarmd door een verwarmer die boven het functionele materiaal wordt gevestigd zodat stotend of bespattend wordt onderdrukt, waardoor een eenvormige functionele film zonder een speldeprik wordt geproduceerd.