An anti-reflection high conductivity multi-layer coating for CRT products includes three layers coating created by vacuum sputtering and a fourth layer coating created by wet coating process. A first layer, nearest to the substrate, is made of a transparent conductive oxide material having a refractive index within the approximating range of 1.85 to 2.1 at a wavelength of 520 nm. The second layer is formed from an oxide material having a refractive index within the range of 1.45 to 1.50 at a wavelength of 520 nm. The third layer is formed of an oxide material having a refractive index within the range of 1.85 to 2.2 at a wavelength of 520 nm. The fourth layer has a refractive index within the range of 1.45 to 1.55 at a wavelength of 520 nm.

Un enduit multicouche de conductivité élevée d'antiréflexion pour des produits de tube inclut trois couches d'enduire créé par la pulvérisation de vide et un quatrième enduit de couche créé par le processus enduisant humide. Une première couche, la plus proche du substrat, est faite d'un matériel conducteur transparent d'oxyde ayant un indice de réfraction dans la marge rapprochante de 1.85 à 2.1 à une longueur d'onde de 520 nm. La deuxième couche est formée d'un matériel d'oxyde ayant un indice de réfraction dans la marge de 1.45 à 1.50 à une longueur d'onde de 520 nm. La troisième couche est constituée d'un matériel d'oxyde ayant un indice de réfraction dans la marge de 1.85 à 2.2 à une longueur d'onde de 520 nm. La quatrième couche a un indice de réfraction dans la marge de 1.45 à 1.55 à une longueur d'onde de 520 nm.