A method and apparatus for cleaning, rinsing and Marangoni drying substrates is provided. A line of fluid is sprayed along a substrate surface forming an air/fluid interface line, and a line of drying vapor is supplied to the interface line to achieve Marangoni drying. Thus, a large portion of the substrate is simultaneously dried. A preferred apparatus employs a tank of cleaning and/or rinsing fluid. Above the tank fluid a source of rinsing fluid directs rinsing fluid to the surface of a substrate forming a meniscus on the substrate surface as the substrate is lifted from the cleaning fluid, and a drying vapor source directs drying vapor to the meniscus. The drying vapor lowers the surface tension of the meniscus, inducing a Marangoni flow of rinsing fluid from the substrate's surface, and thereby drying the substrate. The cleaning fluid tank has a substrate receiving and cleaning portion and a substrate rinsing portion. The rinsing fluid source and the drying vapor source are enclosed by a drying enclosure above the rinsing portion of the tank. Thus, substrate loading, cleaning, rinsing, drying and unloading are performed with at least partial overlap in time.

Обеспечены метод и прибор для чистки, полоскать и субстратов Marangoni drying. Линия жидкости распылена вдоль поверхности субстрата формируя линию поверхности стыка air/fluid, и линия drying пара поставлена к линии поверхности стыка для того чтобы достигнуть засыхания Marangoni. Таким образом, большая часть субстрата одновременно высушена. Предпочитаемый прибор использует бак чистки and/or жидкость полоскать. Над жидкостью бака источник полоскать жидкость направляет полоскать жидкость к поверхности субстрата формируя мениск на поверхности субстрата по мере того как субстрат поднят от жидкости для чистки, и drying источник пара направляет drying пар к мениску. Drying пар понижает поверхностное натяжение мениска, наводя подачу Marangoni полоскать жидкость от поверхности субстрата, и таким образом сушить субстрат. Бак жидкости для чистки имеет субстрат получить и очистить часть и субстрат полоща часть. Полоща жидкий источник и drying источник пара заключены drying приложением над полоща частью бака. Таким образом, нагрузка субстрата, чистка, полощущ, сушащ и разгржающ выполнена с по крайней мере частично перекрытием в времени.