An apparatus for rinsing and drying a semiconductor workpiece in a micro-environment is set forth. The apparatus includes a rotor motor and a rinser/dryer housing. The rinser/dryer housing is connected to be rotated by the rotor motor. The rinser/dryer housing further defines a substantially closed rinser/dryer chamber therein in which rinsing and drying fluids are distributed across at least one face of the semiconductor workpiece by the action of centripetal acceleration generated during rotation of the housing. A fluid supply system is connected to sequentially supply a rinsing fluid followed by a drying fluid to the chamber as the housing is rotated.

Μια συσκευή για και ένα κομμάτι προς κατεργασία ημιαγωγών micro-environment εκτίθεται. Η συσκευή περιλαμβάνει μια μηχανή στροφέων και ένα rinser/mja ξηρότερη κατοικία. Το rinser/i ξηρότερη κατοικία συνδέεται για να περιστραφεί από τη μηχανή στροφέων. Το rinser/i ξηρότερη κατοικία καθορίζει περαιτέρω ουσιαστικά κλειστό rinser/tin ξηρότερη αίθουσα εκεί μέσα στα οποία τα ξεπλένοντας και ξεραίνοντας ρευστά διανέμονται πέρα από τουλάχιστον ένα πρόσωπο του κομματιού προς κατεργασία ημιαγωγών από τη δράση της κεντρομόλου επιτάχυνσης που παράγεται κατά τη διάρκεια της περιστροφής της κατοικίας. Ένα ρευστό σύστημα ανεφοδιασμού συνδέεται για να παρέχει διαδοχικά ένα ξεπλένοντας ρευστό που ακολουθείται από ένα ξεραίνοντας ρευστό στην αίθουσα καθώς η κατοικία περιστρέφεται.