An apparatus for processing a semiconductor wafer is set forth. The apparatus comprises a processing bowl that defines a processing chamber. The processing bowl is in fixed alignment with a frame. A wafer support structure adapted to support at least one wafer is mounted for rotation within the processing chamber. A motor drive assembly is disposed exterior to the processing chamber and connected to rotate the wafer support. The motor drive assembly includes an electrically driven motor and at least one shock absorbing member connected between the electrically driven motor and the frame. The electrically driven motor preferably includes a rotor shaft that rotates about an axis of rotation. The shock absorbing member is adapted to elastically deform in substantially all directions perpendicular to the axis of rotation of the rotor shaft in response to vibrational forces having components perpendicular to the axis of rotation and, to a lesser degree, in directions parallel to the axis of rotation of the rotating shaft in response to vibrational forces having components parallel to the axis of rotation. In accordance with a further, independently unique aspect of the present invention, an aggressive seal is provided to prevent materials, such as processing fluids, from entering the motor in the region of the motor rotor. To this end, expulsion threads are provided at an end of the rotor shaft of the motor. A member substantially surrounds the expulsion threads at the end of the rotor. Together, the member defines a chamber with the rotor. Rotation of the rotor and threads assist in preventing foreign materials from entering the motor.

Un aparato para procesar una oblea de semiconductor se dispone. El aparato abarca un tazón de fuente de proceso que defina un compartimiento de proceso. El tazón de fuente de proceso está en la alineación fija con un marco. Una estructura de la ayuda de la oblea adaptada para apoyar por lo menos una oblea se monta para la rotación dentro del compartimiento de proceso. Un conjunto impulsor del motor es exterior dispuesto al compartimiento de proceso y conectado para rotar la ayuda de la oblea. El conjunto impulsor del motor incluye a un motor eléctricamente impulsor y por lo menos a un miembro absorbente del choque conectados entre el motor eléctricamente impulsor y el marco. El motor eléctricamente impulsor incluye preferiblemente un eje de rotor que rote sobre un eje de la rotación. Adaptan al miembro absorbente del choque elástico para deformir en substancialmente todas las direcciones perpendiculares al eje de la rotación del eje de rotor en respuesta a las fuerzas vibratorias que tienen componentes perpendiculares al eje de la rotación y, a un poco grado, en las direcciones paralelas al eje de la rotación del eje que rota en respuesta a las fuerzas vibratorias que tienen componentes paralelos al eje de la rotación. De acuerdo con otro, independientemente único aspecto de la actual invención, un sello agresivo se proporciona para evitar que los materiales, tales como proceso de los líquidos, inscriban el motor en la región del rotor del motor. Con este fin, los hilos de rosca de la expulsión se proporcionan en un extremo del eje de rotor del motor. Un miembro rodea substancialmente los hilos de rosca de la expulsión en el extremo del rotor. Junto, el miembro define un compartimiento con el rotor. La rotación del rotor y los hilos de rosca asisten a evitar que los materiales extranjeros entren en el motor.