An apparatus for processing a semiconductor wafer is set forth. The apparatus comprises a processing bowl that defines a processing chamber. The bowl has an opening through which wafers may be placed in the apparatus. A wafer support structure adapted to support at least one wafer is mounted for rotation within the processing chamber. A motor drive assembly is connected to rotate the wafer support structure. At least one fluid nozzle accepts processing fluid and sprays the processing fluid on the one or more wafers carried by the wafer support structure. A door is used to seal the opening of the processing bowl. The door has an opening that is open to ambient atmosphere to facilitate passage of ambient gas into the processing chamber. An ambient gas intake assembly is disposed in the door. The ambient gas intake assembly comprises a high efficiency filter, preferably, and ULPA filter, disposed to filter ambient gas passing from the opening of the door to the processing chamber and a heater disposed to heat the filtered gas prior to entering the processing chamber.

Un apparecchio per l'elaborazione della cialda a semiconduttore è disposto. L'apparecchio contiene una ciotola d'elaborazione che definisce un alloggiamento d'elaborazione. La ciotola ha un'apertura con cui le cialde possono essere disposte nell'apparecchio. Una struttura di sostegno della cialda adattata per sostenere almeno una cialda è montata per rotazione all'interno dell'alloggiamento d'elaborazione. Un complessivo di azionamento del motore è collegato per ruotare la struttura di sostegno della cialda. Almeno un ugello fluido accetta l'elaborazione del liquido e spruzza il liquido d'elaborazione sulle una o più cialde trasportate dalla struttura di sostegno della cialda. Un portello è usato per sigillare l'apertura della ciotola d'elaborazione. Il portello ha un'apertura che è aperta ad atmosfera ambientale facilitare il passaggio di gas ambientale nell'alloggiamento d'elaborazione. Un complessivo ambientale della presa del gas è disposto di nel portello. Il complessivo ambientale della presa del gas contiene un filtro di alta efficienza, preferibilmente e filtro di ULPA, disposto di per filtrare il gas ambientale che passa dall'apertura del portello all'alloggiamento d'elaborazione e di un riscaldatore disposto di per riscaldare il gas filtrato prima dell'entrare nell'alloggiamento d'elaborazione.