A homogeneous compositions containing a fluorinated solvent, hydrogen fluoride, and a co-solvent, and the use of these compositions for cleaning and etching of substrates is described.

Wird der homogene Aufbau, der ein fluoriertes Lösungsmittel, Wasserstofffluorid und ein Co-Lösungsmittel und der Gebrauch von diesem Aufbau für Reinigung und Radierung der Substrate enthält, beschrieben.