A centrifugal processor for flat media, such as a silicon wafer, has a rotor eccentrically positioned within a cylindrical chamber or bowl. Drainage openings or slots are located near the bottom of the bowl. The rotor is offset in a direction away from the drain openings. Fluids drain more quickly from the bowl, as the tendency of the spinning rotor to draw fluids up and around the bowl is reduced, due to the rotor offset and to the discrete drain openings, and the position and orientation of the drain openings.

Un processor centrifugo per i mezzi piani, quale una lastra di silicio, ha un rotore posizionato eccentricamente all'interno di un alloggiamento o di una ciotola cilindrico. Le aperture o le scanalature di drenaggio sono situate vicino alla parte inferiore della ciotola. Il rotore è sfalsato in un senso via dalle aperture dello scolo. I liquidi vuotano più rapidamente dalla ciotola, poichè la tendenza del rotore di filatura estrarre i liquidi su ed intorno alla ciotola è ridotta, dovuto il rotore sfalsato ed alle aperture discrete dello scolo e la posizione e l'orientamento delle aperture dello scolo.