The formation of a transparent conductive ZnO film on a substrate in accordance with the chemical vapor deposition process is accomplished herein by a method characterized by feeding purified water and an organic metal material for Zn as separately entrained by a carrier gas into a vacuum chamber having a reduced inner pressure, adjusting the gas pressure inside the vacuum chamber to a level in the range of from 1 to 30 Torrs, supplying diborane gas or a compound containing boron or aluminum into the vacuum chamber, heating a substrate disposed inside the chamber to a prescribed temperature, and performing the ensuant formation of a film under the adjusted gas pressure mentioned above. Preferably, the formation of the film on the substrate disposed inside the vacuum chamber is carried out while the substrate is kept irradiated with ultraviolet light. This method enables the transparent conductive ZnO film possessing a textured surface form, exhibiting low resistivity, and particularly befitting adoption as a transparent conductive film in a thin-film solar cell to be produced at a relatively high film-forming rate.

La formación de una película conductora transparente de ZnO en un substrato de acuerdo con el proceso de la deposición de vapor químico es lograda adjunto por un método caracterizado alimentando el agua purificada y un material orgánico del metal para el zn según lo arrastrado por separado por un gas portador en un compartimiento del vacío que tiene una presión interna reducida, ajustando la presión de gas dentro del compartimiento del vacío a un nivel en la gama de a partir de la 1 a 30 Torrs, gas del diborane que provee o un boro o un aluminio que contiene compuesto en el compartimiento del vacío, calentando un substrato dispuesto dentro del compartimiento a una temperatura prescrita, y realizando la formación ensuant de una película bajo presión de gas ajustada mencionada arriba. Preferiblemente, la formación de la película en el substrato dispuesto dentro del compartimiento del vacío se realiza mientras que el substrato se mantiene irradiado con la luz ultravioleta. Este método permite la película conductora transparente de ZnO que posee una forma superficial textured, exhibiendo resistencia baja, y particularmente befitting la adopción como película conductora transparente en una célula solar thin-film que se producirá en una tarifa filmógena relativamente alta.