An ultraviolet-assisted chemical vapor deposition system for improving the adhesion, hardness, and thermal stability of organic polymer films deposited on semiconductor wafers is provided. The system includes an ultraviolet lamp and a tube-shaped monomer distribution system positioned over the wafer allowing ultraviolet irradiation of the wafer before, during and/or after deposition. Processes for depositing organic polymer films on semiconductor wafers are also provided. The processes include one or more depositions, one or more ultraviolet exposures, and one or more anneals.

Een ultraviolet-bijgewoond systeem van het chemische dampdeposito om de adhesie, de hardheid, en de thermische stabiliteit van organische polymeerfilms te verbeteren die op halfgeleiderwafeltjes worden gedeponeerd wordt verstrekt. Het systeem omvat een ultraviolette lamp en een buis-vormig systeem dat van de monomeerdistributie dat over het wafeltje wordt geplaatst ultraviolette straling van het wafeltje toestaat vóór, tijdens en/of na deposito. De processen om organische polymeerfilms op worden halfgeleiderwafeltjes te deponeren ook verstrekt. De processen omvatten één of meerdere deposito's, één of meerdere ultraviolette blootstelling, en één of meer ontharden.