A method is provided for the fabrication of a porous polymeric material by electrophoretic deposition. The porous polymeric material is particularly well suited as a polishing surface for the planarization of semiconductor wafers.

Une méthode est donnée pour la fabrication d'un matériel polymère poreux par le dépôt électrophorétique. Le matériel polymère poreux est en particulier bon convenu car une surface de polissage pour le planarization des gaufrettes de semi-conducteur.