A high resolution, high-throughout, large field size, production environment, lithographic tool system and method includes an interferometric pattern generator utilizing three or four mutually coherent optical beams organized in a flexible beam expansion, filtering, aperturing, and delivery system, large area pattern uniformity is attained via optimized illumination beam positioning and shaping. A passive stabilization system achieves fully modulated interferometric patterns in high mechanical and acoustical vibration manufacturing environments.

Uma resoluçã0, elevado-durante todo, o tamanho de campo grande, o ambiente da produção, o sistema lithographic da ferramenta e o método incluem um gerador interferometric do teste padrão que utiliza três ou quatro feixes óticos mutuamente coherent organizados em uma expansão flexível do feixe, em filtrar, em aperturing, e no sistema da entrega, uniformidade grande do teste padrão da área são alcançados através do feixe optimized da iluminação que posiciona e que dá forma. Um sistema passivo da estabilização consegue testes padrões interferometric inteiramente modulados em ambientes de manufacturing mecânicos e acústicos elevados da vibração.