The invention provides a nanostructure including an anodized film including nanoholes. The anodized film is formed on a substrate having a surface including at least one material selected from the group consisting of semiconductors, noble metals, Mn, Fe, Co, Ni, Cu and carbon. The nanoholes are cut completely through the anodized film from the surface of the anodized film to the surface of the substrate. The nanoholes have a first diameter at the surface of the anodized film and a second diameter at the surface of the substrate. The nanoholes are characterized in that either a constriction exists at a location between the surface of the anodized film and the surface of the substrate, or the second diameter is greater than the first diameter.

De uitvinding verstrekt een nanostructure met inbegrip van een geanodiseerde film met inbegrip van nanoholes. De geanodiseerde film wordt op een substraat gevormd dat een oppervlakte met inbegrip van minstens één materiaal heeft dat uit de groep wordt geselecteerd die uit halfgeleiders, edele metalen, Mn, Fe, Co, Ni, Cu en koolstof bestaat. Nanoholes worden gesneden volledig door de geanodiseerde film van de oppervlakte van de geanodiseerde film aan de oppervlakte van het substraat. Nanoholes hebben een eerste diameter aan de oppervlakte van de geanodiseerde film en een tweede diameter aan de oppervlakte van het substraat. Nanoholes worden gekenmerkt in dat of een beklemming bestaat bij een plaats tussen de oppervlakte van de geanodiseerde film en de oppervlakte van het substraat, of de tweede diameter is groter dan de eerste diameter.