A process sequence is disclosed for fabricating arrays of Thin Film Transistors by printing metallic conductors for the gate and data lines and possibly the Indium Tin Oxide Pixel electrode as well. The process eliminates conventional step-and-repeat photolithographic patterning, and provides high conductivity metallization for large arrays. These arrays may be used in displays, detectors and scanners.

Отростчатая последовательность показана для изготовляя блоков транзисторов тонкой пленки путем печатать металлических проводников для строба и телевизионная строка с данными телетекста и по возможности электрода пиксела окиси олова индия также. Процесс исключает обычную шаг-и-povtor4et photolithographic делать по образцу, и обеспечивает высокое металлизирование проводимости для больших блоков. Эти блоки могут быть использованы в индикациях, детекторах и блоках развертки.