A new method for CVD deposition on a substrate is taught wherein radical species are used in alternate steps to depositions from a molecular precursor to treat the material deposited from the molecular precursor and to prepare the substrate surface with a reactive chemical in preparation for the next molecular precursor step. By repetitive cycles a composite integrated film is produced. In a preferred embodiment the depositions from the molecular precursor are metals, and the radicals in the alternate steps are used to remove ligands left from the metal precursor reactions, and to oxidize or nitridize the metal surface in subsequent layers. A variety of alternative chemistries are taught for different films, and hardware combinations to practice the invention are taught as well.

Eine neue Methode für CVD Absetzung auf einem Substrat wird unterrichtet, worin radikale Sorten in den wechselnden Schritten zu den Absetzungen von einem molekularen Vorläufer, um das Material zu behandeln verwendet werden, das vom molekularen Vorläufer und die Substratoberfläche mit einer reagierenden Chemikalie in der Vorbereitung für den folgenden molekularen Vorläuferschritt vorzubereiten niedergelegt wird. Durch sich wiederholende Zyklen wird ein zusammengesetzter integrierter Film produziert. In einer bevorzugten Verkörperung sind die Absetzungen vom molekularen Vorläufer Metalle, und die Radikale in den wechselnden Schritten werden, um ligands nach links von den Metallvorläuferreaktionen zu entfernen, benutzt und zu oxidieren oder die Metalloberfläche in den folgenden Schichten nitridize. Eine Vielzahl der alternativen Chemie wird für unterschiedliche Filme unterrichtet, und die Kleinteilkombinationen, zum der Erfindung zu üben werden außerdem unterrichtet.