An improved optical photolithography system and method provides predetemined light patterns generated by a direct write system without the use of photomasks. The Direct Write System provides predetermined light patterns projected on the surface of a substrate (e.g., a wafer) by using a computer controlled component for dynamically generating the predetermined light pattern, e.g., a spatial light modulator. Image patterns are store in computer and through electronic control of the spatial light modulator directly illuminate the wafer to define a portion of the polymer array, rather than being defined by a pattern on a photomask. Thus, in the Direct Write System each pixel is illuminated with an optical beam of suitable intensity and the imaging (printing) of an individual feature is determined by computer control of the spatial light modulator at each photolithographic step without the use of a photomask. The Direct Write System including a spatial light modulator is particularly useful in the synthesis of DNA arrays and provides an efficient element for polymer array synthesis by using spatial light modulators to generate a predetermined light pattern that defines the image patterns of a polymer array to be deprotected.

Un système et une méthode optiques améliorés de photolithographie fournit predetemined les modèles légers produits par un direct écrivent le système sans utilisation des photomasks. Les directs écrivent le système fournissent ont prédéterminé les modèles légers projetés sur la surface d'un substrat (par exemple, une gaufrette) en employant un composant commandé par ordinateur pour produire dynamiquement du modèle léger prédéterminé, par exemple, un modulateur léger spatial. Les modèles d'image sont magasin dans l'ordinateur et par la commande électronique du modulateur léger spatial illuminez directement la gaufrette pour définir une partie de la rangée de polymère, plutôt que d'en étant défini par un modèle sur un photomask. Ainsi, dans le direct écrivez le système que chaque Pixel est illuminé avec un faisceau optique de l'intensité appropriée et la formation image (impression) d'un dispositif individuel est déterminée par la gestion par ordinateur du modulateur léger spatial à chaque étape photolithographic sans utilisation d'un photomask. Les directs écrivent le système comprenant un modulateur léger spatial sont particulièrement utiles dans la synthèse des rangées d'ADN et fournissent un élément efficace pour la synthèse de rangée de polymère en employant les modulateurs légers spatiaux pour produire d'un modèle léger prédéterminé qui définit les modèles d'image d'une rangée de polymère pour être deprotected.