A system and method is provided that facilitates the application of a uniform layer of developer material on a photoresist material layer. The system includes a multiple tip nozzle and a movement system that moves the nozzle to an operating position above a central region of a photoresist material layer located on a substrate, and applies a volume of developer as the nozzle scan moves across a predetermined path. The movement system moves the nozzle in two dimensions by providing an arm that has a first arm member that is pivotable about a first rotational axis and a second arm member that is pivotable about a second rotational axis or is movable along a translational axis. The system also provides a measurement system that measures the thickness uniformity of the developed photoresist material layer disposed on a test wafer. The thickness uniformity data is used to reconfigure the predetermined path of the nozzle as the developer is applied. The thickness uniformity data can also be used to adjust the volume of developer applied along the path and/or the volume flow rate.

Система и метод provided that облегчает применение равномерного слоя материала проявителя на слое материала фоторезиста. Система вклюает множественное сопло конца и систему движения двигает сопло к рабочей позиции над центральной зоной слоя фоторезиста материального расположенного на субстрате, и прикладывает том проявителя по мере того как развертка сопла двигает через предопределенный курс. Система движения двигает сопло в 2 размерах путем обеспечивать рукоятку имеет первый член рукоятки pivotable около первая ось вращения и второй член рукоятки pivotable около вторая ось вращения или подвижно вдоль поступательной оси. Система также обеспечивает систему измерения измеряет единообразие толщины начатого слоя фоторезиста материального размещанного на вафле испытания. Данные по единообразия толщины использованы для того чтобы заново скомпоновать предопределенный курс сопла по мере того как проявитель приложен. Данные по единообразия толщины можно также использовать для того чтобы отрегулировать том проявителя приложенный вдоль курса and/or тарифа подачи тома.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Arc welding monitoring device

> Dual independent robot blades with minimal offset

> (none)

~ 00010