A method for chemical vapor deposition includes dispensing a precursor to a vaporizer positioned within a vaporization chamber and delivering a vapor to a process chamber without a carrier gas. A flow meter is positioned within the delivery conduit for measuring the flow rate of precursor through the delivery conduit. A flow controller is likewise positioned within the delivery conduit for controlling the flow of precursor in response to the measured flow rate.

Метод для низложения химически пара вклюает распределять прекурсор к вапоризатору расположенному внутри камера испарения и поставлять пар к отростчатой камере без газа несущей. Метр подачи расположен внутри проводник поставки для измерять тариф подачи прекурсора через проводник поставки. Регулятор подачи также расположен внутри проводник поставки для контролировать подачу прекурсора in response to измеренный тариф подачи.