An apparatus for injecting constant quantitative chemicals which is capable of injecting a chemical solution into ultra pure water without generating particulate contamination, and furthermore, the injection interval of the chemical solution to the cleaning nozzle is controlled in units of seconds within a range of a few seconds to 10 or more seconds, and the switching of the type of chemical solution and the changeover to ultra pure water cleaning can be conducted in a short period of time of approximately 1 second. The apparatus includes a chemical solution injection system having a chemical solution retaining part for retaining the chemical solution, a control system for pressurization and depressurization for controlling the pressure of the chemical solution in the chemical solution retaining part at regular intervals, an injection control system which operates in concert with the control of the pressure of the chemical solution, and is structured so as to conduct the intermittent injection and instantaneous mixing function of the chemical solution from the chemical solution injection system to the ultra pure water flow path, and the injection stoppage function, and a chemical solution replenishment system which is structured so as to operate in concert with the control of the chemical solution and to be capable of replenishing the chemical solution in the chemical solution retaining part from a chemical solution source.

Un appareil pour injecter les produits chimiques quantitatifs constants qui est capable d'injecter une solution chimique dans l'eau ultra pure sans produire de la contamination particulaire, et en outre, l'intervalle d'injection de la solution chimique au bec de nettoyage est commandé dans les unités des secondes dans une marge de quelques secondes à 10 en second lieu ou plus, et la commutation du type de solution chimique et le changement au nettoyage ultra pur de l'eau peuvent être conduits dans une période courte d'approximativement 1 seconde. L'appareil inclut un système d'injection chimique de solution ayant une pièce de retenue de solution chimique pour maintenir la solution chimique, un système de commande pour la pressurisation et dépressurisation pour commander la pression de la solution chimique dans la pièce de retenue de solution chimique à intervalles réguliers, un système de commande d'injection qui fonctionne de concert avec la commande de la pression de la solution chimique, et est structuré afin de conduire l'injection intermittente et la fonction de mélange instantanée de la solution chimique du système d'injection chimique de solution au chemin ultra pur d'écoulement de l'eau, et la fonction d'interruption d'injection, et un système chimique de remplissage de solution qui est structuré afin de fonctionner de concert avec la commande de la solution chimique et pour être capable de renouveler la solution chimique dans la pièce de retenue de solution chimique d'une source chimique de solution.

 
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< Wafer cleaning apparatus and structure for holding and transferring wafer used in wafer cleaning apparatus

> Coordinating color produced by two devices--using a hue-controlled machine color space, or surface scaling

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