A method of forming a film on a substrate using Group IIIA metal complexes. The complexes and methods are particularly suitable for the preparation of semiconductor structures using chemical vapor deposition techniques and systems.

Eine Methode der Formung eines Filmes auf einem Substrat mit Gruppe IIIA Metallkomplexen. Die Komplexe und die Methoden sind für die Vorbereitung der Halbleiterstrukturen mit Absetzungtechniken und -systemen des chemischen Dampfes besonders verwendbar.