A method of forming a resist pattern including the steps of: forming a resist film by coating resist on the surface of a member to be processed, the resist containing a composition A capable of increasing the volume by chemical reaction; exposing and developing the coated resist film to form a pattern having an opening; and chemically reacting fluid containing a composition B with the composition A by contacting the fluid with the composition A to change the size of the opening of the resist film, the composition B being capable of increasing the volume of the composition A by chemical reaction with the composition A. It is possible to form a fine resist pattern by a simple method.

Une méthode de former un modèle de résistance comprenant les étapes de : en formant un film de résistance en enduisant résistez sur la surface d'un membre à traiter, la résistance contenant une composition A capable d'augmenter le volume par la réaction chimique ; exposer et développer l'enduit résistent au film pour former un modèle ayant une ouverture ; et chimiquement réagissant le fluide contenant une composition B avec la composition A en entrant en contact avec le fluide avec la composition A pour changer la taille de l'ouverture du film de résistance, la composition B étant capable d'augmenter le volume de composition A par la réaction chimique à la composition A. Il est possible de former une amende résistent au modèle par une méthode simple.