A device and method for preventing settlement of particles on a chemical-mechanical polishing pad is provided. Specifically, a device capable of preventing settlement of particles on the pad is located between the polishing pad and a platen of a chemical-mechanical polishing apparatus.

Un dispositivo e un metodo per impedire lo stabilimento delle particelle su un tampone a cuscinetti per lucidare prodotto-meccanico è fornito. Specificamente, un dispositivo capace di impedire lo stabilimento delle particelle sul rilievo è situato fra il tampone a cuscinetti per lucidare e una lastra di un apparecchio di lucidatura prodotto-meccanico.