A substrate holder assembly for retaining a substrate during chemical mechanical polishing is described. The substrate holder assembly includes: (i) a backing plate including a contact surface adapted for supporting components of the substrate holder assembly and the substrate; (ii) a shim positioned adjacent the contact surface of the backing plate for applying pressure on the substrate during chemical-mechanical polishing; and (iii) a carrier film disposed adjacent the shim such that at least a portion of the carrier film adjacent the shim protrudes outwardly.

Um conjunto do suporte da carcaça para reter uma carcaça durante lustrar mecânico químico é descrito. O conjunto do suporte da carcaça inclui: (i) uma placa do revestimento protetor including uma superfície de contato adaptou-se para componentes suportando do conjunto do suporte da carcaça e da carcaça; (ii) um calço posicionou adjacente a superfície de contato da placa do revestimento protetor para aplicar a pressão na carcaça durante lustrar produto-mecânico; e (iii) uma película do portador dispôs adjacente o calço tais que ao menos uma parcela da película do portador adjacente o calço se projeta externa.