A wet station apparatus used for cleaning and wet etching a semiconductor wafer includes a chemical container for holding a chemical solution, a temperature measuring device for measuring a temperature of the chemical solution, a temperature control unit for comparing the temperature measured by the temperature measuring device with a predetermined reference temperature value, and outputting the result as a control signal, a quartz heater for heating the chemical solution, a power supply controller for receiving the control signal and adjusting the power supplied to the quartz heater, and a power switch connected to the power supply controller, for receiving a heating initiation signal and switching power to the quartz heater, wherein a heater monitoring system is further provided for monitoring the operating states of the quartz heater and the power supply controller and notifying an operator of any problems.

Ein nasser Stationapparat verwendete für Reinigung und nasse Radierung ein Halbleiterplättchen schließt einen chemischen Behälter für das Halten einer chemischen Lösung, ein Meßinstrument der Temperatur für das Messen einer Temperatur der chemischen Lösung mit ein, maß eine Temperatur-Regeleinheit für das Vergleichen der Temperatur durch das Meßinstrument der Temperatur mit einem vorbestimmten Bezugstemperaturwert und dem Ausgeben des Resultats als Steuersignal, Quarzheizung für das Heizen der chemischen Lösung, Spg.Versorgungsteilsteuerpult für das Empfangen des Steuersignals und das Einstellen Spg.Versorgungsteil an die Quarzheizung und Energie Schalter, der angeschlossen wurde an den Spg.Versorgungsteilsteuerpult, auf das Empfangen einer Heizung Anfangssignal- und -schaltungsenergie an die Quarzheizung, worin eine Heizung Überwachungsanlage wird weiter für die Überwachung der funktionierenden Zustände der Quarzheizung und des Spg.Versorgungsteilsteuerpults und das Benachrichtigen eines Operators über allen möglichen Problemen zur Verfügung gestellt.