A method of stabilizing chemical vapor deposited titanium nitride layers so that they can withstand a subsequent high temperature deposition of aluminum which comprises heating said film in nitrogen containing from about 3-15% by volume of oxygen. When aluminum is deposited over the treated titanium nitride film, the barrier properties of the titanium nitride are maintained up to temperatures of at least about 575.degree. C.

Μια μέθοδος το χημικό ατμό κατάθεσε τα στρώματα νιτριδίων τιτανίου έτσι ώστε μπορούν να αντισταθούν μια επόμενη απόθεση υψηλής θερμοκρασίας του αργιλίου που περιλαμβάνει τη θέρμανση εν λόγω ταινία στο άζωτο που περιέχει από περίπου 3-15% από τον όγκο του οξυγόνου. Όταν το αργίλιο κατατίθεται πέρα από την αντιμετωπισμένη ταινία νιτριδίων τιτανίου, οι ιδιότητες εμποδίων του νιτριδίου τιτανίου διατηρούνται μέχρι τις θερμοκρασίες τουλάχιστον για 575.degree. γ.

 
Web www.patentalert.com

< (none)

< Method of making multiple lead voltage probe

> Method of fabricating a passivation layer for integrated circuits

> (none)

~ 00001