A method for depositing a thin film including a sulfide of a metal on a substrate. First and second vapor streams are generated and combined in the vicinity of the substrate. The first vapor stream includes an organic compound containing the metal is generated. The second vapor stream includes a mercaptan. The preferred mercaptan is tertrary-butyl-mercaptan. The preferred metal precursor is a .beta.-diketonate of the metal.

Un método para depositar una película fina incluyendo un sulfuro de un metal en un substrato. Primero y las segundas corrientes del vapor se generan y se combinan en la vecindad del substrato. Se genera la primera corriente del vapor incluye un compuesto orgánico que contiene el metal. La segunda corriente del vapor incluye un mercaptan. El mercaptan preferido es tertrary-buti'lico-tertrary-butyl-mercaptan. El precursor preferido del metal es un beta.-diketonate del metal.